自2021年底拓荊推出國內首臺HDPCVD到客戶端，目前已升級為新型六邊形平臺，產品性能達到業界領先水平，坪效比業界第壹。憑借研發實力和先進的設計理念獲得客戶贊譽和信任，市場占有率不斷攀升。自首臺完成驗證後，客戶持續增加HDPCVD設備采購量，截止到目前反應腔累計裝機量已超過70個， 2024年底預計將突破100個。

        拓荊的HDPCVD設備Hesper產品采用六邊形平臺(TS-300S)，可搭配5個反應腔，實現了高產能、高開機率、易維護和優異的薄膜填充能力。同時具有Wafer殘余吸附力監測系統，穩定的靜電吸附力和自動控溫模式等功能。Hesper主要用於STI、ILD、IMD及Passivation等各種溝道介質填充。