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產品介紹
產品介紹
PF-300T Altair 系列是我公司自主研發的熱原子層沈積（Thermal Atomic Layer Deposition）設備，以高產能PEALD設備核心技術為基礎，針對相應薄膜沈積的特殊性，對反應腔模塊及關鍵部件優化設計，實現成本更低，純度更高的薄膜的沈積。
- 理想的熱原子層沈積系統
- 更快速的脈沖及吹掃，實現更高的產能
- 精準的化學源劑量控制，實現工藝長期穩定性
- 獨特的溫控設計，實現更高純度的薄膜
- 維護簡便，易耗件生命周期長，清洗成本低
產品介紹
PF-300T Altair 系列是我公司自主研發的熱原子層沈積（Thermal Atomic Layer Deposition）設備，以高產能PEALD設備核心技術為基礎，針對相應薄膜沈積的特殊性，對反應腔模塊及關鍵部件優化設計，實現成本更低，純度更高的薄膜的沈積。
