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產品介紹
產品介紹
SACVD 設備系列是我公司自主研發的次常壓化學氣相沈積（SACVD）設備。SACVD反應腔搭載在已通過量產驗證的高產能PECVD平臺上，充分實現客戶對產能的需求。該設備主要應用在STI、PMD/ILD等，滿足Gap-fill的需求。
產品特點
-高質量的TEOS SiO2和BPSG工藝
-可依客戶選擇配置1-3路液態源，實現多種先進工藝
-可與8英寸兼容互相切換（PF-200T SA）
-可搭載1-3個PM
-通過S2安全認證和F47標準檢驗
產品介紹
SACVD 設備系列是我公司自主研發的次常壓化學氣相沈積（SACVD）設備。SACVD反應腔搭載在已通過量產驗證的高產能PECVD平臺上，充分實現客戶對產能的需求。該設備主要應用在STI、PMD/ILD等，滿足Gap-fill的需求。
產品特點
-高質量的TEOS SiO2和BPSG工藝
-可依客戶選擇配置1-3路液態源，實現多種先進工藝
-可與8英寸兼容互相切換（PF-200T SA）
-可搭載1-3個PM
-通過S2安全認證和F47標準檢驗
