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產品介紹
產品介紹
TS-300 Altair系列是我公司自主研發的原子層沈積設備，ALD反應腔搭載在高產能的PECVD平臺上，滿足了對設備產能的需求。現可提供高質量的Thermal ALD, 如AIN薄膜，並陸續開發薄膜工藝。該產品采用拓荊六邊形平臺，可搭配5個反應腔，具有高產能和低顆粒度等優勢。
產品特點
- 六邊形的高產能平臺
- 可搭配多個反應腔，實現產能的優化配置
- 可沈積高質量的AIN薄膜
- ALD薄膜在高寬比(20:1)情況下臺階覆蓋率可達到95%
- 通過S2安全認證和F47標準檢驗
